全自動步進重復式激光干涉光刻機

全自動步進重復式激光干涉光刻機

全自動步進重復式激光干涉光刻機VIL 1000納米光刻系統具有全自動光路重構、動態鎖相、高精度步進重復曝光等強大功 能。上述功能均通過我們自主研發的控制軟件輕松實現。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動設置或調整，我們的自動化系統可以在2 cm×2 cm的曝光區域內 （曝光區域還可定制其他尺寸及形狀）實現納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結構的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區間范圍，可滿足絕大部分對納米結構的需 求。通過高精度的步進重復式曝光系統，VIL 1000系統還可以在高達8英寸的晶圓襯底上 進行納米圖案的“拼接"工藝，實現晶圓級納米加工。其中每個“拼接"區域的納米圖案 都可由LithoPro單獨設置，包括周期、晶格和特征尺寸等參數。VIL 1000系統可選配的升 級模塊還包括紫外接觸式曝光、特征尺寸調制及光刻工藝仿真等。 VIL 1000 納米光刻系統非常適合在同一晶圓襯底上分區域加工不同納米結構的應用，比如 AR表面浮雕光波導等。此外，該系統也非常有利于快速加工大面積納米結構，實現納米器 件的設計參數到試產驗證的快速迭代。

v> 步進重復式曝光 標準配置的 VIL 1000 納米光刻系統支持在 4 英寸晶圓上進行步 進重復式曝光，每個獨立的曝光區域面積可高達 通過 升級的更高配置的工件臺，最大“拼接"范圍可進一步擴展到 6-8 英寸晶圓。

 全自動化參數設置 全自動的快速可重構光路模塊和多軸精密工件臺系統助力于制造具有 不同周期和幾何形狀的納米圖案，包括一維線柵和納米點、孔、棒、 棋盤格等二維陣列。

 特征尺寸調制 / 紫外接觸式曝光模塊 VIL 1000 納米光刻系統可以選配特征尺寸調制模塊。通過精密調 制光刻納米結構的占空比，該模塊可提高單次曝光區域內的納米 圖案均勻性，也可用于實現經過特定設計的特征尺寸的空間調制。 此外，VIL 1000 系統還支持選配紫外接觸式曝光模塊，使該系統 可適用于更廣泛的應用